二次电子分辨率:1.0 nm (15 kv,WD = 4 mm )
1.4 nm (1 kv,WD = 1.5 mm ,减速模式)
2.0 nm (1kv,WD = 1.5 mm,普通模式)
电子枪:冷场发射电子源
加速电压:0.5 kv - 30 kv
放大倍率:20倍 – 800,000 倍
主要技术指标:
二次电子分辨率:1.0 nm (15 kv,WD = 4 mm )
1.4 nm (1 kv,WD = 1.5 mm ,减速模式)
2.0 nm (1kv,WD = 1.5 mm,普通模式)
电子枪:冷场发射电子源
加速电压:0.5 kv - 30 kv
放大倍率:20倍 – 800,000 倍
功能应用范围:
冷场发射扫描电镜可对试样进行表面形貌观察分析,已广泛应用于材料科学(金属材料、非金属材料、纳米材料)、冶金、电子、半导体、食品、生命科学等科研和工程领域。具体情况如:金属、非金属及复合材料的观察分析;纳米材料的形貌观察和粒度测量统计;颗粒样品粒径、周长测量;对固体材料的表面涂层、镀层进行结合情况观察和厚度测量。所测样品应为干燥的固体,且具有一定的化学、物理稳定性,在真空中及电子束轰击下不会挥发或变形;无磁性、放射性和腐蚀性。